反应离子蚀刻

反应离子刻蚀:反应离子刻蚀(RIE)是一种物理作用和化学作用共存的刻蚀工艺,兼有离子溅射刻蚀和等离子化学刻蚀的优点,不仅分辨率高,同时兼有各向异性和选择性好的优点,而且刻蚀速率快。

关闭
产品咨询
客服热线:13584876669

反应离子刻蚀:

反应离子刻蚀(RIE)是一种物理作用和化学作用

共存的刻蚀工艺,兼有离子溅射刻蚀和等离

子化学刻蚀的优点,不仅分辨率高,同时兼有各

向异性和选择性好的优点,而且刻蚀速率快。


电话咨询
产品中心
服务支持
QQ客服